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    壓電掃描臺的介紹及其應用

    更新時(shí)間: 2018-08-27

    壓電掃描臺是中心具有通孔的壓電納米定位臺,它也是基于壓電陶瓷驅動(dòng),采用柔性鉸鏈設計,具有無(wú)機械摩擦、分辨率高等特點(diǎn),壓電掃描臺內部可集成高精度傳感器。產(chǎn)品主要應用于透光精密光學(xué)器件的定位與調整、生物顯微與光學(xué)顯微成像系統等。

    壓電掃描臺的中孔設計,從適用于小型設備(如紅外熱成像)的小通孔的壓電掃描臺到大型設備(如大口徑干涉儀)用的大通孔壓電掃描臺,具有多種中孔尺寸可選。

     

    壓電掃描臺的運動(dòng)方向可自由選擇,如一維X向、一維Z向、二維XY向、三維XYZ向運動(dòng)等,壓電掃描臺的行程范圍從8μm至370μm范圍內自由選擇。

    N12壓電掃描臺

    N12系列壓電掃描臺為1~3維并聯(lián)式壓電掃描臺,臺體中心方形通孔,通過(guò)采用有限元仿真分析優(yōu)化結構,具有超高的導向精度、高剛性、大負載、無(wú)磨損等特點(diǎn),平臺內可選擇配置高性能傳感器進(jìn)行全閉環(huán)反饋,實(shí)現滿(mǎn)行程0.04%的重復定位精度。

     

    芯明天N12壓電掃描臺

    N12系列納米定位臺體積非常小巧,位移可達110μm。*的平行運動(dòng)學(xué)設計原理,使得平臺可以實(shí)現XYZ軸高速精密運動(dòng)。這款產(chǎn)品的應用非常廣泛,從光學(xué)研究到工業(yè)化OEM系統等。

    N12系列壓電掃描臺的通光孔為45×45mm。高剛度以及優(yōu)異的直線(xiàn)性使其成為光學(xué)、激光領(lǐng)域納米級精密定位應用的選擇。

    N12系列壓電掃描臺配置高分辨率傳感器,對位置實(shí)時(shí)檢測并反饋到壓電控制器,控制器通過(guò)PID算法調整電壓修正位移,從而實(shí)現高精度定位。

    N12.XYZ壓電掃描臺配套芯明天E72系列模塊化控制器應用于光學(xué)顯微成像,實(shí)現XYZ軸精密掃描。

     

    N12三維技術(shù)參數

    型號:N12.XYZ100S 

    運動(dòng)自由度:X、Y、Z

    標稱(chēng)行程范圍(0~120V):80µm/軸

    大行程范圍(-20~150V):110µm/軸

    傳感器類(lèi)型:SGS  

    通孔尺寸:45×45mm

    分辨率:7nm,typ.

    閉環(huán)線(xiàn)性度:0.15%F.S.

    閉環(huán)重復定位精度:0.1%F.S.

    俯仰/偏航/滾動(dòng):<20µrad

    運動(dòng)方向大推/拉力:20N/4N

    空載階躍時(shí)間:30ms

    空載工作頻率(10%行程):30Hz

    空載工作頻率(行程):4Hz

    承載能力:0.5Kg

    靜電容量:1.8μF/軸

    工作溫度范圍:-20~80℃

    材質(zhì):鋼、鋁

    外形尺寸:85×85×26mm

    重量:350g

    出線(xiàn)長(cháng):1.5m

    傳感/電壓連接器:LEMO

     

    壓電掃描臺的應用

    原子力顯微鏡

    閉環(huán)納米定位掃描臺作為原子力顯微鏡的一部分,可帶動(dòng)樣品進(jìn)行高速精密運動(dòng),可以實(shí)現X、Y、Z軸280μm的掃描,分辨率為亞納米級,響應時(shí)間可達亞毫秒。

     

     

    高分辨率CCD

    利用現有工藝水平下的CCD圖像傳感器件,獲得更高的分辨率,目前有效的方法是采用被攝物成的像與CCD圖像傳感器之間發(fā)生微小的相對位移來(lái)記錄多幅圖像,然后利用多次采集的原始圖像來(lái)合成高分辨率的圖像,壓電掃描臺用于帶載鏡片做納米級運動(dòng)。

     

     

    三維共焦顯微

    三維共聚焦顯微拉曼光譜分析儀器,能在納米范圍內測量物質(zhì)化學(xué)狀態(tài)的三維圖像。壓電物鏡驅動(dòng)器實(shí)現對顯微鏡在Z軸方向上的納米級在線(xiàn)實(shí)時(shí)調焦,XY二維壓電掃描臺實(shí)現對被測物高精度的二維平面位移運動(dòng)。

     

     

    激光平面干涉

    Z向壓電掃描臺的作用是做納米級的微運動(dòng),調整待測物的位置,從而改變對應的干涉條紋的寬度及位置,以達到更的表面測量。

     

     

    納米光刻

    首先計算機將BMP圖轉化為灰度圖,然后再通過(guò)控制系統控制二維掃描臺,帶動(dòng)鍍膜鏡片在0-300μm范圍內對讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化,同時(shí)控制激光器及掃描臺,二者配合完成BMP圖的納米定位加工。

     

     

    紅外熱成像掃描

    紅外熱成像通過(guò)紅外敏感CCD對物體進(jìn)行成像,能反映出物體表面的溫度場(chǎng)。

    二維壓電掃描臺的高速高精度掃描大大提高了熱成像的分辨率。

     

     

     

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