三維壓電偏擺臺用于晶圓表面檢測
半導體工業(yè)對于晶圓表面缺陷檢測的要求,一般是要求高效準確,能夠捕捉有效缺陷,實(shí)現實(shí)時(shí)檢測。將晶圓放于精密光學(xué)平臺上,選擇合適的入射光照射于晶圓表面,晶圓隨光學(xué)平臺及旋轉托盤(pán)而運動(dòng),完成表面的掃描。再通過(guò)CCD等收集反射光,得到晶圓表面圖像,傳到計算機,從而檢測晶圓表面的缺陷。
芯明天高精度P51壓電偏轉/掃描臺可以實(shí)現θx,θy方向偏轉及Z向升降,因其分辨率高、重復定位精度高、響應速度快等特點(diǎn)非常適于晶圓檢測,即可用于調節光路,又可調節晶圓樣品的觀(guān)測視角,大大提高了晶圓檢測的精度。
P51系列壓電偏轉臺為θx、θy 軸偏擺Z 軸升降臺,偏轉行程為±1.1mrad,Z軸直線(xiàn)行程可達100μm。臺體采用無(wú)回差柔性鉸鏈導向結構,采用有限元分析進(jìn)行優(yōu)化,具有超高的剛度以及導向精度。
產(chǎn)品特性
運動(dòng)自由度:θx、θy、Z
直線(xiàn)行程:100μm@150V
偏擺角度:±1.1mrad/軸@150V
直線(xiàn)分辨率可達4nm
偏擺分辨率可達0.05μrad
通孔尺寸:80×80mm
承載可達1kg
仿真分析
通過(guò)有限元FEA 優(yōu)化的鉸鏈用于導向機構偏轉臺。有限元分析技術(shù)用于設計運動(dòng)方向上的剛度,并減少角度偏差。鉸鏈部分允許*精度的運動(dòng),因為鉸鏈機構無(wú)間隙、無(wú)摩擦。
帶載階躍時(shí)間
P51.ZT1S壓電偏擺臺配套E01.D3壓電控制器,加載240g負載達滿(mǎn)行程的階躍時(shí)間約50ms,加載500g 負載達滿(mǎn)行程的階躍時(shí)間約100ms。
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