激光直寫(xiě)是利用強度可變的激光束對基片表面的抗腐蝕材料實(shí)施變劑量曝光，顯影后在抗腐蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓，激光直寫(xiě)系統的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫(xiě)出所設計的任意圖形，從而把設計圖形直接轉移到掩模上。

激光直寫(xiě)系統基本原理結構

激光直寫(xiě)系統的基本結構如圖1所示，主要由He-Cd激光器、聲光調制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機、顯示器、照明光源、工作臺、調焦裝置、He-Ne激光干涉儀和控制計算機等部分構成。

圖1 激光直寫(xiě)系統結構簡(jiǎn)圖

激光直寫(xiě)的基本工作流程是：用計算機產(chǎn)生設計的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩模結構數據；將數據轉換成直寫(xiě)系統控制數據，由計算機控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光；經(jīng)顯影和刻蝕將設計圖形傳遞到基片上。

激光直寫(xiě)系統現有技術(shù)存在的問(wèn)題

機械誤差：光刻過(guò)程是指放置在電動(dòng)平臺上的光刻膠基片隨著(zhù)電動(dòng)平臺的轉動(dòng)和平移，由聲光調制器控制光束的強弱對光刻膠進(jìn)行變劑量曝光，通常電動(dòng)平臺的定位精度達到微米或亞微米量級。然而由于慣性、靜摩擦、松動(dòng)等所造成的電動(dòng)平臺螺距誤差與偏移，將直接影響著(zhù)系統的性能和光刻元件的質(zhì)量。如何提升實(shí)現平臺的高精度定位是激光直寫(xiě)技術(shù)中需要考慮的問(wèn)題。

芯明天壓電納米定位平臺采用柔性鉸鏈機構，鉸鏈機構基于固體的彈性變形，無(wú)滾動(dòng)和滑動(dòng)部分，具有零摩擦、高精度的特點(diǎn)，并且具有很高的剛度和承載能力。更重要的是，芯明天壓電納米定位臺的定位精度可達納米級甚至亞納米級。

芯明天壓電納米定位平臺以其納米級的精度、穩定的性能、便捷的操控成為掃描運動(dòng)平臺的理想選擇。

芯明天壓電掃描臺簡(jiǎn)介

P12A系列壓電掃描臺

運動(dòng)自由度：XYZ

行程：100μm/軸

分辨率：7/4nm

中心通孔：45×45mm

承載能力：0.5kg

P15系列壓電掃描臺

運動(dòng)自由度：XYZ

行程：300μm/軸

分辨率：13/6nm

中心通孔：66×66mm

承載能力：0.5kg

P17.XY200系列壓電掃描臺

運動(dòng)自由度：XY

行程：187.5μm/軸

分辨率：8/5nm

中心通孔：60×60mm

承載能力：1kg

P78.Z200/300系列壓電掃描臺

運動(dòng)自由度：Z

行程：187.5μm/262.5μm

分辨率：7/3nm

中心通孔：64×64mm

承載能力：1kg

為了壓電納米定位臺與您系統間更好的融合，芯明天公司提供定制服務(wù)，可按客戶(hù)應用的系統進(jìn)行量身定制。